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    大氣等離子清洗設備

    產品功能

    在大氣的環境下,快速清除有機污染物達到元件表面清潔及改善的功能,有效提升元件封裝,黏著,印刷之可靠度。


    詳細介紹

    產品特點

    多項專利設計;

    等離子效率高、處理速度快;

    處理均勻性佳;

    電極最小化設計,可處理下置產品;

    操作簡單,可調整電漿功率、處理距離;

    可整合于in Line產線 ;

    處理金屬基板材質,不會造成元件損傷。

    應用產業

    液晶面板產業:STN、 TFT、 OLED 、 LTPS;

    觸控面板;

    光電元件、電子元件封裝貼合前清潔;

    LED封裝、PCB 產業;

    太陽能產業;

    Touch Panel 制程;

    (1) Cover lens coating 制程前清潔;

    (2) Touch sensor PR 制程前清潔;

    (3)貼合制程前清潔。

    產品規格

    項目

    SAP006

    電漿形式

    DBD type

    處理范圍

    最大2500 mm

    制程氣體

    N2、CDA

    電源

    AC 200V-220V/50HZ-60HZ,3 phase

    功率

    20-50 kHZ/1kW 20 kW

    清潔高度

    1-5 mm(依產品性質而訂)


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    控制部

    電源

    照射部


    項目

    Remote Type

    SAP006R(G3)

    SAP006R(G5)

    SAP006R(G8)

    1

    電漿寬度

    550mm

    1100mm

    2200mm

    2

    電漿頭尺寸

    900*210*300mm

    1450*210*300mm

    2550*210*300mm

    3

    重量

    25kg(55.11lbs)

    50kg(110.23lbs)

    100kg(220.46lbs)

    4

    需求電源

    220V,60Hz,1phase,

    3wire,15A,地線<5Ω


    220V,60Hz,

    1phase,3wire,30A,地線<5Ω

    220V,60Hz,1phase,

    3wire,60A,地線<5Ω

    5

    電漿輸出功率

    1600~1800W

    3200~3500W

    6500~7000W

    6

    電漿有效距離

    1~3mm(建議2mm)

    7

    進氣接頭

    12*8mm Connector

    8

    N2壓力

    5.5±0.5kg/cm2

    9

    N2流量

    385L/min

    770L/min

    1540L/min

    10

    控制界面

    Display and Button


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